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膜厚仪EDX-8000B型XRF镀层测厚仪

膜厚仪EDX-8000B型XRF镀层测厚仪

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膜厚仪EDX8000B应用场景
EDX8000B镀层测厚仪可以用于PCB镀层厚度测量,PCB镀层分析,金属电镀镀层分析;
测量的对象包括镀层、敷层、贴层、涂层、化学生成膜等
可测量离子镀、电镀、蒸镀、等各种金属镀层的厚度
镀铬,例如带有装饰性镀铬饰面的塑料制品
钢上锌等防腐涂层
电路板和柔性PCB上的涂层
插头和电触点的接触面
电镀液分析
贵金属镀层,如金基上的

膜厚仪EDX-8000B型XRF镀层测厚仪的详细资料:

膜厚仪EDX-8000B型XRF镀层测厚仪

>微光斑X 射线聚焦光学器件

通过将高亮度一次 X 射线照射到0.02mm的区域,实现高精度测量。


>硅漂移探测器 (SDD) 作为检测系统

高计数率硅漂移检测器可实现高精度测量。


>高分辨率样品观测系统

的点位测量功能有助于提高测量精度。


>全系列标配薄膜FP无标样分析法软件,可同时对多层镀层及全金镀层厚度和成分进行测量

配合用户友好的软件界面,可以轻松地进行日常测量。


背景介绍

材料的镀层厚度是一个重要的生产工艺参数,其选用的材质和镀层厚度直接影响了零件或产品的耐腐蚀性、装饰效果、导电性、产品的可靠性和使用寿命,因此,镀层厚度的控制在产品质量、过程控制、成本控制中都发挥着重要作用。开发的EDX8000B镀层测厚仪是专门针对于镀层材料成分分析和镀层厚度测定。其主要优点是准确,快速,无损,操作简单,测量速度快。可同时分析多达五层材料厚度,并能对镀层的材料成分进行快速鉴定。

XRF镀层测厚仪工作原理

镀层测厚仪EDX8000B是将X射线照射在样品上,通过从样品上反射出来的第二次X射线的强度来测量镀层等金属薄膜的厚度,因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线能量很低,所以不会对样品造成损坏。同时,测量的也可以在10秒-30秒内完成。


膜厚仪EDX8000B产品特点

>测试快速,无需样品制备

>可通过内置高清CCD摄像机来观察及选择定位微小面积镀层厚度的测量,避免直接接触,污染或破坏被测物

>备有多种以上的镀层厚度测量和成分分析时所需的标准样品

>可覆盖元素周期表Mg镁到U铀

>SDD检测器,具有高计数范围和的能量分辨率

>可切换准直器和滤光片


膜厚仪EDX8000B应用场景

>EDX8000B镀层测厚仪可以用于PCB镀层厚度测量,PCB镀层分析,金属电镀镀层分析;

>测量的对象包括镀层、敷层、贴层涂层、化学生成膜等

>可测量离子镀电镀、蒸镀、等各种金属镀层的厚度

>镀铬,例如带有装饰性镀铬饰面的塑料制品

>钢上锌等防腐涂层

>电路板和柔性PCB上的涂层

>插头和电触点的接触面

>电镀液分析

>贵金属镀层,如金基上的铑材料分析

>电镀液分析

>分析电子和半导体行业的功能涂层

>分析硬质材料涂层,例如 CrN、TiN 或 TiCN

>可拓展增加RoHS有害元素分析功能


技术参数


仪器外观尺寸: 560mm*380mm*410mm

超大样品腔:460mm*310mm*95mm

仪器重量: 40Kg

元素分析范围:Mg12-U92镁到铀

可分析含量范围:1ppm- 99.99%

涂镀层检出限:0.005μm

探测器:AmpTek 高分辨率电制冷SDD Detector

多道分析器: 4096DPP analyzer

X光管:50W高功率光管

高压发生装置:电压大输出50kV自带电压过载保护

电压:220ACV 50/60HZ

环境温度:-10 °C 35 °C


膜厚仪EDX8000B可分析的常见镀层材料


可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。


单涂镀层应用:如Cr/Fe, Ni/Fe, Ag/Cu,Zn/Fe等


多涂镀层应用:如Au/Ni/Cu, Ag/Pb/Zn, Ni/Cu/Fe等


合金镀层应用:如ZnNi/Fe, ZnAl/Ni/Cu等


合金成分应用:如NiP/Fe, 同时分析镍磷含量和镀层厚度


线圈IMG_2863.jpgrohs分析仪X荧光光谱仪.jpg




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